Quase todos os elementos presentes em uma amostra sólida podem ser detectados e quantificados rotineiramente: Do nível de % até partes por bilhão (ppb).
Alta produtividade e baixo custo de análise O Element GD Plus GD-MS foi projetado para oferecer sensibilidade e precisão excepcionais com alto rendimento de amostras, reduzindo drasticamente o custo da análise.
Fonte de íons de fluxo rápido
- Design da fonte amigável ao usuário: troca de amostras em menos de 1 minuto
- Tempos curtos de bombeamento: < 10 minutos para a troca de amostras
- Alto rendimento de amostras: até 5 amostras/hora
- Menor preparação de amostras: não é necessário limpeza ácida de amostras de alta pureza
- Análise de amostras mais rápida: sem necessidade de medir padrões de calibração
Operação rotineira O Element GD Plus GD-MS foi projetado com foco na operação rotineira e no alto rendimento.
- Faixa dinâmica linear abrangendo mais de 12 ordens de magnitude, permitindo a análise simultânea de elementos de matriz (%), traços (ppm) e ultra-traços (ppb)
- Calibração cruzada automática entre diferentes modos de detecção assegura resultados robustos
- Câmara de vácuo da amostra: elimina o risco de vazamento entre a amostra e a célula GD
- Determinação rápida de concentrações elementares em uma única varredura sem padrões de calibração (usando a abordagem padrão RSF)
- Melhor precisão em um curto tempo de análise
Limites de detecção excepcionais O Element GD Plus GD-MS oferece alto rendimento sem comprometer a qualidade. Com a maior relação sinal-ruído e os menores limites de detecção, o Element GD Plus GD-MS é o cavalo de batalha para a análise elemental de ultra-alta pureza.
- Fonte de íons única projetada para alta transmissão de íons, maximizando o sinal analisado.
- Relação sinal-ruído garantida, proporcionando limites de detecção sub-ppb
- Opção CNO opcional que atinge limites de detecção no nível sub-ppm para CNO sem comprometer o rendimento da sua análise
- Redução em 10 vezes das interferências poliatômicas em comparação com fontes GD estáticas
Confiança nos resultados por alta resolução de massa A simplicidade da ICP-MS de alta resolução permite o desempenho mais avançado, sem comprometer o desenvolvimento de métodos confiáveis e diretos.
- Medições sem interferências para resultados analíticos indiscutíveis
- Qualquer combinação de configurações de resolução pode ser realizada em uma única análise
- Design de fenda fixa garante máxima estabilidade e reprodutibilidade
- Contribuição mínima de sinais de matriz alta sobre picos de analitos vizinhos devido à lente de filtro
Perfil de profundidade com resolução nanométrica O perfil de profundidade é uma ferramenta importante para a análise elementar de revestimentos e avaliação da difusão de elementos entre camadas.
- Resolução de profundidade desde nanômetros até centenas de micrômetros
- Determinação de concentrações de todos os elementos de sub-ppm a 100% sem necessidade de calibração
- Diâmetro de ânodo flexível para perfil de profundidade avançado
- As taxas de pulverização podem ser ajustadas para análise de massa ou perfil de profundidade
Recomendado para:
- Aeroespacial: superligas de níquel, materiais compostos, perfil de profundidade de revestimentos e camadas de difusão
- Microeletrônica: cobre, pó de alumina, alvos de pulverização
- Energia renovável: blocos de silício, wafers, células solares
- Médico/Farmacêutico/Alimentício: aço inoxidável, ligas
